センサコラム「計測技術2007年1月増刊号」Vol.01

�潟mーケン　倉本　拓司

はじめに

　様々な測定原理のプロセス用ガス分析計が存在するが、一般的な分析計の多くはプロセスからプロセスガスを分析計まで引き込むサンプリング方式を採っている。

　 サンプリング方式では、サンプリング装置などによって、プロセスガスの状態を分析計に適した条件に整え、高温／高圧や腐食性雰囲気など困難なプロセス条件においても安定的に分析を行うことを可能とするメリットがある反面、プロセスガスがサンプリング装置を介して分析計に到達するまでの時間差によって測定に遅れが生ずるデメリットが存在する。このため、瞬間的なガス濃度変化に対して、測定の追従性に限界がある。また、プロセスガスの採取がサンプリングプローブ近傍のガスに限られ、ガス濃度が均一でない条件下では測定値に対して補正が必要な場合がある。これらの問題点を解消するガス分析計として、Siemens製レーザ式ガス分析計・LDS6を紹介する。このLDS6は、サンプルポイントにて直接測定を行う＊In-situタイプの分析計であり、サンプルガスを分析計に引き込むことなく、プロセスガスの濃度を直接測定することが可能である。サンプリング装置による測定の遅れが無いため、ガス条件の変化に対して速い追従性を実現することができる。また、測定原理として、近赤外波長可変半導体レーザ吸収分光法(TDLAS／Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy)を利用しており、優れた選択性および高ダスト濃度下での安定測定など様々な特長を有する。

　 以下に、LDS6の測定原理、特長および適用例を紹介する。

　 ＊in-situ：「本来の場所で」という意味を表すラテン語で、直接プロセスで分析を行うことを示します。